除了财报信息,中微半导体还公布了该公司产品的最新进展,其中等离子体刻蚀设备已在国际一线客户从65nm到14nm、7nm和5nm的集成电路加工制造及先进封装中有具体应用。
此外,中微半导体的MOCVD(化学气相沉积()设备在行业领先客户的生产线上大规模投入量产,公司已成为世界排名前列、国内占领先地位的氮化镓基LED设备制造商。
中微半导体表示,今年上半年,中微公司刻蚀设备产品保持竞争优势,批量应用于国内外一线客户的集成电路加工制造。此外,公司已成功取得5nm逻辑电路、64层3D NAND制造厂的订单。
在验证顺利的情况下,公司将紧跟客户的生产计划、量产需求有序制定生产计划。
中微半导体的主力产品就是蚀刻机,这也是半导体制造中最重要的设备之一,用来在芯片上进行微观雕刻,每个线条和深孔的加工精度都是头发丝直径的几千分之一到上万分之一,精度控制要求非常高。
中微所说的5nm蚀刻机进入5nm也不让人意外,实际上该公司去年就发布了相关消息了,旗下的蚀刻机已经获得了台积电的认证,后者的5nm生产线上就会使用中微公司的蚀刻机。